个人简介 张佳，男，1987年12月生，博士，讲师。

2016/06～今，西安电子科技大学，空间科学与技术学院测控通信系，讲师

2012/03~2016/06，西安交通大学，电气工程，博士学位

2009/09~2012/03，西安交通大学，电气工程，硕士学位

2005/09~2009/07，华北电力大学，电气工程及其自动化，学士学位

在PhysicsofPlasmas、PlasmaChemistryandPlasmaProcessing、IEEETran.onPlasmaScience、《强激光与粒子束》等国内外学术刊物上发表研究论文10余篇。

科学研究 目前研究团队承担的科研项目：

主持

1.2016.8-2018.8,博士后创新人才支持计划项目，主持，在研。

2.2017.3-2019.3,西安电子科技大学基本科研业务项目，主持，在研。

3.2017.6-2018.8,中国博士后基金面上项目,主持，在研。

4.2018.1-2020.12国家自然科学基金青年项目，主持，在研。

参与

1.2017.1-2021.12,国家重大仪器专项,主要参研人员，在研

荣誉获奖 空间科学与技术学院最佳科研新人奖

博士后创新人才支持计划

西安交通大学优秀博士毕业生

招生要求

关于研究生招生的信息：

每年招生硕士研究生1-2名，欢迎电气工程、理论物理等专业的同学报考。

鼓励研究生在校期间参加国内和国际学术会议，课题组承担所有费用。

与国内多家企业有密切合作关系，可提供足够的科研锻炼和实习机会。

1．伪火花放电机理及应用

研究不同条件下的伪火花放电特性，掌握不同参数对放电特性的影响规律。伪火花放电等离子体能量沉积特性及极紫外辐射特性以及高能电子束产生机理及应用。

2.全固态功率电子技术

基于全固态的高功率脉冲源，产生重复频率20kHz，电压40kV的纳秒脉冲。

3．高速目标等离子体参数特性研究

基于远红外激光干涉仪、静电探针和高速CCD相机获得不同条件下的高速目标等离子体电子密度三维空间分布特性。

研究领域主要为：气体放电等离子体产生技术，高速目标等离子体诊断。

担任《PlasmaSourcesScienceandTechnology》，《IEEETran.onPlasmaScience》，《Vacuum》等权威SCI期刊审稿人。

[1]Zhang,J.，Li,X.，Liu,Y.，Zhao,J.，Zhang,Q.，Studyontheelectronemissionprocessofthepseudosparkduringthehollowcathodephaseundernanosecondpulsedvoltage，PhysicsofPlasmas，23（12）:123525 [2]Zhang,Jia，Zhao,Junping，Zhang,Qiaogen，FastElectronIonizationEffectinMulti-gapPseudosparkDischargeUnderNanosecondPulsedVoltages，IEEETransactionsonPlasmaScience，43（11）：3921~3924 [3]Zhang,Jia，Zhao,Junping，Zhang,Qiaogen，TheBreakdownCharacteristicsofMultigapPseudosparkUnderNanosecondPulsedVoltages，IEEETransactionsonPlasmaScience，42（12）：3886~3890 [4]Zhang,Jia，Zhao,Junping，Characteristicsofplasmabasedonelectronbeamsproducedinpseudosparkdischargeundernanosecondpulsedvoltages，IEEETransactionsonPlasmaScience，42（10）：2824~2825 [5]Zhang,Jia，Zhao,Junping，Zhang,Qiaogen，TheBreakdownCharacteristicsofSingle-GapPseudosparkDischargeUnderNanosecondPulsedVoltages，IEEETransactionsonPlasmaScience，42（8）：2037~2041 [6]张佳，赵军平，张乔根，纳秒脉冲下单间隙伪火花放电特性，强激光与粒子束，26（04）：217~220 [7]JiaZhang,XiaotaoLiu,andQiaogenZhang.Researchondynamicalbehaviorofvirtualanodeinhollowcathodedischarge.PhysicsofPlasmas，24（5）:053515.

[8]JiaZhangandXiaotaoLiu.CharacteristicsoftheSingle-GapPseudosparkDischargeUnderNanosecondPulsedVoltagesPlasmaChemPlasmaProcess37(4):1211–1222.