张小英，女，博士，福建漳州人，高级实验师，硕士生导师，2017年毕业于台湾大叶大学电机工程系，目前在厦门理工学院光电与通信工程学院从事光电子材料与器件的研究工作。作为项目负责人主持福建省自然科学基金项目2项、福建省教育厅科技项目3项、厦门市科技计划项目1项、厦门市留学人员科研项目1项和横向课题3项。

讲授课程 光电量测实验技术、LED封装实训、大学物理实验

教育经历 2015/3-2017/7台湾大叶大学访学，博士，电机工程专业。 2004/9-2007/7厦门大学物理系，硕士，凝聚态物理专业。 2000/9-2004/6福建师范大学物理系，学士，物理学专业。

主持科研项目 1.福建省自然科学基金项目“基于PEALD制备氧化铪薄膜钝化PERC电池的研究”（2020J01298），2020年11月-2023年10月，在研。 2.厦门市留学人员科研项目“利用金属氧化物薄膜钝化单晶硅表面的研究”（厦人社[2020]172号-04），2020年9月-2022年9月，在研。 3.横向项目“厦门市城市轨道交通机电系统检测与运营服务评价”（ZK-HF21097），2021年11月-2022年12月，在研。 4.厦门理工学院科技项目“氧化铪薄膜钝化硅晶片的研究”（YKJ18008R）,2018年12月-2021年12月，在研。 5.厦门市科技计划项目“制备氧化铪薄膜应用于太阳能电池的研究”（3502Z20183054），2018年3月-2021年3月，已结题。 6.福建省教育厅科技项目“高效率PERC电池关键技术研究”（JT180432）,2018年8月-2021年8月，已结题。 7.横向项目“厦门市城市轨道交通乘客出行研究”，2020年11月-2021年3月，已结题。 8.横向项目“新能源技术（装备）在福厦高速公路综合应用的可行性研究”（HZ17113），2017年12月-2019年12月，已结题。 9.福建省教育厅科技项目“聚苯乙烯球粗化GaN基LED的研究”（JB12182）,2012年7月-2016年6月，已结题。 10.福建省教育厅科技项目“大功率LED激光剥离技术的研究”（JB08215）,2008年6月-2011年12月，已结题。 11.福建省自然科学基金项目“基于键合和激光剥离技术的GaN基发光器件的研制”（2008J0221），2008年5月-2011年12月，已结题。

高效率硅基太阳能电池、宽禁带半导体材料与器件、Micro LED

1. Xiao-Ying Zhang, Yue Yang, Wei-Hang Fan, Chen Wang, Wan-Yu Wu, Ming-Chun Tseng, Dong-Sing Wuu, Peng Gao, Hao-Chung Kuo, Shui-Yang Lien and Wen-Zhang Zhu. Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application. Surface & Coating Technology, 2022; 435. (SCI收录，JCR一区)

2. Xiao-Ying Zhang, Yue Yang, Zhi-Xuan Zhang, Xin-Peng Geng, Chia-Hsun Hsu, Wan-Yu Wu, Shui-Yang Lien and Wen-Zhang Zhu. Deposition and characterization of RP-ALD SiO2 thin films with different oxygen plasma powers. Nanomaterials, 2021; 11:1173. (SCI收录，JCR二区)

3. Xiao-Ying Zhang, Chia-Hsun Hsu, Shui-Yang Lien, Wan-Yu Wu, Sin-Liang Ou, Song-Yan Chen, Wei Huang, Wen-Zhang Zhu, Fei-Bing Xiong and Sam Zhang. Temperature-dependent HfO2/Si interface structural evolution and its mechanism. Nanoscale Research Letters, 2019; 14:83-83-8. (SCI收录，JCR二区)

4. Xiao-Ying Zhang, Chia-Hsun Hsu, Yun-Shao Cho, Sam Zhang, Shui-Yang Lien, Wen-Zhang Zhu,Fei-Bing Xiong. Rapid thermal processingof hafnium dioxide thin films by remote plasma atomic layer deposition as high-k dielectrics. Thin Solid Films,2018; 660:797-801. (SCI收录，JCR三区)

5. Xiao-Ying Zhang, Chia-Hsun Hsu, Shui-Yang Lien, Song-Yan Chen, Wei Huang, Chih-Hsiang Yang, Chung-Yuan Kung, Wen-Zhang Zhu, Fei-Bing Xiong, Xian-GuoMeng. Surface passivation of silicon using HfO2 thin films deposited by remote plasma atomic layer deposition system. Nanoscale Research Letters, 2017; 12:324-324-7. (SCI收录，JCR二区)

6. Xiao-Ying Zhang, Chia-Hsun Hsu, Yun-Shao Cho, Shui-Yang Lien, Wen-Zhang Zhu, Song-Yan Chen, Wei Huang, Lin-GuiXie, Lian-Dong Chen, Xu-Yang Zou, Si-Xin Huang. Simulation and fabrication of HfO2 thin films passivating Si from numerical computer and PEALD. Applied Sciences, 2017; 7(12): 1244-1244-9. (SCI收录，JCR三区)