陈修国（Chen Xiuguo, Professor），教授、博士生导师，国家优秀青年科学基金获得者。2013年6月博士毕业于华中科技大学机械电子工程专业，同年进入华中科技大学材料学院博士后流动站，2016年6月出站并留校工作。2016年12月至2018年8月期间，作为日本学术振兴会(JSPS)外国人特别研究员赴日本东北大学进行合作交流。 主要从事光学纳米测量技术与仪器，集成电路(IC)制造在线测量技术与装备，先进仪器研制与新型光电、能源材料表征测量等方面的研究工作。近年来，作为负责人主持国家自然科学基金4项，作为骨干人员参与国家自然科学基金重大科研仪器研制项目、首批国家重大科学仪器设备开发专项、国家科技重大专项等国家级科研项目10余项。申请和授权国际国内发明专项30余项，在Appl. Phys. Lett.、Opt. Express、Opt. Lett.等期刊发表SCI论文80余篇。曾获上银优秀机械博士论文奖、湖北省自然科学优秀学术论文一等奖、日内瓦国际发明金奖、湖北省技术发明一等奖、华中科技大学“学术新人奖”等荣誉。

1. 面向集成电路IC制造的纳米测量技术与装备 面向集成电路(IC)、有机显示(OLED)、光伏太阳能(PV)、柔性电子制造中的工艺控制与良率管理，研究纳米薄膜、纳米结构三维形貌、套刻误差(overlay)等测量新原理与新方法，解决IC制造纳米测量装备中的“卡脖子”技术难题。 2. 先进仪器研制与新型光电、能源材料表征测量 研制宽光谱椭偏仪、高分辨成像椭偏仪、快照式椭偏仪等新型椭偏仪器，以及小角X射线散射仪(SAXS)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线成像仪器，实现石墨烯、过渡金属硫族化合物、黑磷、硅烯等新型二维材料，以及新型半导体光电材料与能源材料的电学、光学、力学等物理特性表征测量。

主要从事光学纳米测量技术与仪器、集成电路(IC)制造在线测量技术与装备、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作

1.S. Sheng, X. Chen*, C. Chen, J. Zhuang, C. Wang, H. Gu, and S. Liu, “Eigenvalue calibration method for dual rotating-compensator Mueller matrix polarimetry,” Opt. Lett. 46, 4618-4621 (2021) 2.C. Wang, X. Chen*, C. Chen, S. Sheng, L. Song, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, “Reconstruction of finite deep sub-wavelength nanostructures by Mueller-matrix scattered-field microscopy,” Opt. Express 29, 32158-32168 (2021) 3.C. Chen, X. Chen*, C. Wang, S. Sheng, L. Song, H. Gu, and S. Liu, “Imaging Mueller matrix ellipsometry with sub-micron resolution based on back focal plane scanning,” Opt. Express 29, 32712-32727 (2021) [Editors’ Pick] 4.S. Yang, B. Qu, G. Liu, D. Deng, S. Liu, and X. Chen*, “Unsupervised learning polarimetric underwater image recovery under nonuniform optical fields,” Appl. Opt. 60, 8198-8205 (2021) [Spotlight on Optics] 5.C. Wang, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, “On the limits of low-numerical-aperture imaging scatterometry,” Opt. Express 28, 8445-8462 (2020) 6.H. Gu, X. Chen*, H. Jiang, Y. Shi, and S. Liu, "Wide field-of-view angle linear retarder with ultra-flat retardance response," Opt. Lett. 44, 3026-3029 (2019). 7.X. Chen*, J. Liao, H. Gu, Y. Shi, H. Jiang, and S. Liu, "Proof of principle of an optical Stokes absolute roll-angle sensor with ultra-large measuring range," Sens. Actuat. A 291, 144-149 (2019). 8.C. Chen, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, "Calibration of polarization effect of a high-numerical-aperture objective lens with Mueller matrix polarimetry," Meas. Sci. Technol. 30, 025201 (2019). 9.Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, "In-line wavefront aberration adjustment of a projection lens for a lithographic tool using the dominant mode method," Appl. Opt. 58, 4176-4184 (2019). 10.H. Gu, X. Chen*, Y. Shi, H. Jiang, C. Zhang, P. Gong, and S. Liu, “Comprehensive characterization of a general composite waveplate by spectroscopic Mueller matrix polarimetry,” Opt. Express 26, 25408-25425 (2018).